сетка отверстия 2*3мм титановая расширенная с покрытием ИК-Та для покрытия полупроводника

Титановая расширенная сетка с отверстиями 2*3 мм и покрытием Ir-Ta для полупроводникового покрытия изготовлена ​​из коммерческого чистого титанового листа ASTM B265 класса 1. В отличие от штампованной сетки, расширенная конструкция создает непрерывное отверстие в форме ромба--здесь размером 2 мм × 3 мм-без потерь материала и сварных соединений, сохраняя присущую титановой подложке коррозионную стойкость и структурную целостность. На этапе расширения пряди ориентируются под контролируемым углом, увеличивая эффективную площадь поверхности, сохраняя при этом равномерное распределение тока по поверхности анода. При нанесении полупроводниковых покрытий такая геометрия напрямую обеспечивает стабильный поток электролита через электрод, минимизацию захвата пузырьков и постоянство линий электрического поля, что критически важно для достижения суб-равномерности покрытия на подложках уровня пластины-. После расширения сетка подвергается тщательному щелочному обезжириванию и травлению кислотой для удаления собственных оксидов, обеспечивая механическое закрепление для последующего покрытия из смешанных-оксидов металлов.

Покрытие из оксида иридия-тантала (Ir-Ta) наносится путем термического разложения солей-предшественников, в результате чего получается анод со стабильными размерами (DSA), специально разработанный для выделения кислорода в электролитах на основе серной кислоты-, содержащих следы хлоридов-точный химический состав, встречающийся в современных полупроводниковых ваннах для меднения. 2*Титановая расширенная сетка с отверстиями 3 мм с Покрытие Ir-Ta для полупроводниковых покрытий обеспечивает перенапряжение выделения кислорода всего в 1,385 В по сравнению с электродом сравнения из сульфата ртути, что напрямую снижает напряжение элемента и потребление энергии при операциях импульсно-периодического обратного покрытия (PPR). Состав Ir-Ta демонстрирует превосходную стойкость к анодному растворению при импульсах высокой-токовой-плотности, характерных для процессов производства медного булата, где покрытия на основе рутения- подвергаются ускоренному разрушению.

Кроме того, компонент оксида тантала стабилизирует структуру покрытия, продлевая срок эксплуатации более чем на 36 месяцев при типичных циклах нанесения полупроводникового покрытия от -до-пленки. Каждая партия сетки проверяется с помощью автоматизированных систем технического зрения на этапах выравнивания и окончательной обработки, что подтверждает допуск по толщине в пределах ±0,05 мм и профили без заусенцев по краям-, совместимые с автоматическим обращением с инструментом для нанесения покрытия. В результате получается анод,-свободный от загрязнений, который сохраняет стабильность размеров, исключает осыпание частиц и обеспечивает воспроизводимое покрытие с высокой-чистотой, необходимое для усовершенствованной металлизации межсоединений.

Превосходная коррозионная стойкость в хлоридной-серной кислоте, содержащей

Компонент оксида тантала стабилизирует матрицу покрытия против анодного воздействия в электролитах, содержащих следовые количества хлоридов, которые являются стандартной добавкой в ​​передовых химических процессах меднения. Титановая подложка остается полностью пассивированной, что исключает риск загрязнения меди растворенным основным металлом.

Минимизированный захват пузырьков и улучшенный массоперенос.

Открытая сетчатая структура позволяет образовавшимся пузырькам кислорода быстро отделяться от поверхности электрода, снижая сопротивление пограничного слоя и поддерживая постоянный поток электролита. Варианты со штампованной сеткой или сплошной пластиной демонстрируют более высокое удержание газа, что приводит к локальному экранированию и неоднородности покрытия-.

Работа без загрязнения-

И титановая подложка, и покрытие Ir-Ta инертны в условиях нанесения покрытия. В электролит не попадает свинец, сурьма или другие растворимые соединения, что устраняет необходимость периодической замены анодного мешка и уменьшает дефекты частиц размером менее 10 мкм.

 

Допуск по толщине и края без заусенцев-

 

Выравнивание и отделка после-расширения контролируются с помощью автоматизированных систем технического зрения, которые поддерживают толщину на уровне ±0,05 мм от номинальной и обеспечивают удаление заусенцев со всех кромок прядей. Это исключает механическое повреждение мембранных сепараторов или инструментов для работы с пластинами.

Увеличенный срок службы

Ускоренные испытания на срок службы (ALT) при токе менее 2 А/см² в 1,5 М H₂SO₄ постоянно превышают 36 месяцев непрерывной работы, при этом ухудшение покрытия определяется повышением напряжения, а не катастрофическим отказом, что позволяет прогнозировать график технического обслуживания.

Настраиваемые геометрические параметры

 

Несмотря на то, что процесс расширенной сетки имеет размер отверстия 2 мм × 3 мм, он позволяет независимо контролировать ширину пряди, угол раскрытия и процент открытой площади, что позволяет оптимизировать работу с конкретными конструкциями инструментов для нанесения покрытий и требованиями к потоку жидкости без затрат на переоснащение.

• Медный дамаск для логических узлов – сборка анода в инструментах для покрытия толщиной 300 мм для -свободного заполнения снизу-верхних траншей размером менее 10 нм; расширенная сетка обеспечивает равномерное распределение тока по формам сигналов PPR.

• Заполнение сквозных-кремниевых переходных отверстий (TSV) – анод с полным-поперечным-сечением в вертикальных камерах для переходных отверстий с соотношением сторон 10:1–20:1; поддерживает стабильное выделение кислорода во время длительных циклов с высокой-током-плотностью.

• Слой перераспределения (RDL) на упаковке уровня панели- – горизонтальные лопастные системы обшивки; Отверстия 2×3 мм обеспечивают непрерывную рециркуляцию электролита.<3% thickness variation across 600mm substrates.

• Под-выступной металлизацией (UBM) для флип--чипа – сегментированное управление током в инструментах селективного покрытия; Покрытие выдерживает периодические обратные циклы очистки без снижения производительности.

• Встроенная трассировочная подложка (ETS) с высокой-плотностью межсоединений – Вертикальные непрерывные пластины (VCP); анодная панель охватывает всю ширину подложки, сводя к минимуму вытягивание-и устраняя ограничения по обслуживанию сплошной пластины.

• Золотисто-никелевая пластина для автомобильных и силовых устройств – работа с высокой-плотностью тока- (3–8 ASD); низкое перенапряжение снижает нагрев электролита, сохраняя стабильность ванны при ударах размером 20–100 мкм.

• Электролитическая обработка медной фольги- – непрерывные линии для фольги толщиной 6–18 мкм; расширенная сетка обеспечивает равномерный ток по ширине полотна 1400 мм на этапах пассивации на основе хрома-.

• Модернизация инструментов для нанесения покрытий – прямая замена систем Lam Research, Applied Materials, NEXX; Покрытие Ir-Ta обеспечивает увеличенные интервалы обслуживания по сравнению с оригинальными анодами на основе рутения-.

Тел: 0917-3873009

Телефон: +86 18992731201

Электронная почта:zhangjixia@bjygti.com

Факс: 0917-3873009

Адрес: №. 195, проспект Гаосинь, зона развития высоких-технологий, город Баоцзи, Шэньси, Китай.

WhatsApp: +86 18992731201

горячая этикетка : Титановая расширенная сетка с отверстиями 2 * 3 мм с покрытием ir-ta для полупроводникового покрытия, Китай, поставщики, производители, индивидуальные, использование, прайс-лист, продажа, в наличии, бесплатный образец, пористый материал